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一、技術(shù)參數(shù)
典型應(yīng)用行業(yè)：光學(xué)行業(yè)、微電子行業(yè)、精密鑄造行業(yè)。
用于硅單晶片、砷化鎵片、碳化硅、藍(lán)寶石晶片、半導(dǎo)體化合物晶片、硬盤(pán)盤(pán)片、芯片、寶石、石英、硬質(zhì)玻璃、光學(xué)鏡片等領(lǐng)域的研磨拋光。
（一）使用方法：
①工藝條件和物理指標(biāo)：
密度（g∕cm3）：1.38±0.02，PH=7.3±0.02，粘度（mPa.S）：＜10。
②操作流程：
待洗研磨拋光工件→研磨機(jī)研磨拋光→清洗→進(jìn)入下道工序。
③可原液使用，或用純水稀釋2-3倍后使用。
（二）注意事項(xiàng)：
①在使用本品時(shí)，不可混入其它藥液和酸性、堿性物質(zhì)；
②若不慎濺入眼中，立即用清水沖干凈即可；
③使用本品的槽、箱在加入本品前必須清洗干凈（把玻璃粉等物質(zhì)清除干凈），如果槽、箱中有其它殘液,會(huì)影響本品性能；
④如果設(shè)備原來(lái)用的工作液已產(chǎn)生細(xì)菌、發(fā)臭，建議添加殺菌劑在研磨機(jī)內(nèi)循環(huán)，以便管道系統(tǒng)內(nèi)、磨盤(pán)等地方的細(xì)菌清洗干凈；
（三）效果圖對(duì)比：
（四）溶液維護(hù)：
經(jīng)驗(yàn)補(bǔ)加法：應(yīng)定期補(bǔ)加或更換新液（建議每3-5天更換新液一次，具體視實(shí)際情況而定）。
（五）故障排除：
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
1、本品是由高分子潤(rùn)滑劑、極壓抗磨劑、防銹劑、抗氧劑、螯合劑、消泡劑、殺菌防腐劑合成的研磨拋光液。適用于藍(lán)寶石襯底與其他硬質(zhì)材料的粗拋與精拋的平整化加工，加工速率高，表面平整度、粗糙度達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，具有加工效率高、使用壽命長(zhǎng)的特點(diǎn)，且光潔度高，懸浮性強(qiáng)，易清洗，完全可以替代同類(lèi)進(jìn)口產(chǎn)品。通常只需配合研磨拋光設(shè)備使用，本品不含苯酚、氯化石蠟、亞硝酸鹽、磷和重金屬等受控物質(zhì)。
2、型號(hào)：2002藍(lán)寶石研磨液
3、保存與運(yùn)輸：25㎏∕桶塑料桶包裝。儲(chǔ)存于陰涼干燥處。按非危險(xiǎn)品儲(chǔ)運(yùn)。保質(zhì)期壹年。
4、本品特點(diǎn)：
去除速率高，拋光效果好，拋光表面粗糙度好，光潔度佳無(wú)劃傷；
本品有良好的冷卻性與防銹性、潤(rùn)滑性、耐高溫（高達(dá)1600-1800度）；
具有良好的防腐性與防銹性，對(duì)提高工件表面光潔度和延長(zhǎng)研磨設(shè)備的使用壽命具有顯著效果，本品配有螯合劑，故在研磨拋光過(guò)程中能有效加速循環(huán)液中碎屑等雜質(zhì)快速沉淀，從而提高本品的耐用性；
本品無(wú)刺激性氣味、無(wú)毒，對(duì)環(huán)境無(wú)污染；
分散性、滲透性能極好，耐磨性好，與傳統(tǒng)拋光粉相比，本品操作簡(jiǎn)便、拋光表面易清洗、在拋光設(shè)備以及拋光墊上無(wú)沉積。
貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為0-40℃，避免敞口長(zhǎng)期與空氣接觸。
